Pengakis yang ditemui dalam proses penapisan

Apr 25, 2022 Tinggalkan pesanan

Memproses minyak dan gas selalunya melibatkan menangani kekotoran, menguraikan sebatian kepada unsur asasnya dan beroperasi pada julat suhu yang luas -- sesetengah daripadanya sangat tinggi.

Berikut ialah beberapa sebatian menghakis yang paling biasa ditemui dalam pelbagai proses yang digunakan di seluruh industri minyak dan gas.


Sulfur: Hadir dalam mentah mentah, sulfur bergabung dengan unsur lain untuk membentuk sulfida, asid sulfurik, asid polithionik dan sebatian agresif lain. Sulfur juga boleh menyebabkan sulfida logam pada suhu tinggi.


Asid Naphthenic: Sekumpulan asid organik yang biasanya ditemui dalam minyak mentah AS Barat dan Timur Tengah.


Asid Polithionik: Lazimnya dicipta semasa peralatan tidak beroperasi, asid ini adalah hasil daripada sulfida, lembapan dan oksigen yang berinteraksi.

 

Klorida: Selalunya ditemui dalam pemangkin, air penyejuk, dan minyak mentah, garam boleh meningkatkan rintangan kakisan. Contoh klorida termasuk magnesium klorida dan kalsium klorida.

 

Karbon Dioksida: Hasil sampingan tumbuhan hidrogen dan proses rekahan pemangkin, karbon dioksida boleh menghasilkan asid karbonik apabila digabungkan dengan lembapan.

 

Ammonia: Selalunya permulaan membentuk bahan menghakis lain -- seperti ammonium klorida -- ammonia adalah hasil biasa hidrogen berinteraksi dengan nitrogen dalam bahan suapan.

 

Sianida: Bertanggungjawab untuk meningkatkan kadar kakisan, sianida sering terbentuk semasa proses keretakan bahan suapan yang tinggi dengan nitrogen.

 

Hidrogen Klorida: Hasil hidrolisis magnesium klorida dan kalsium klorida, hidrogen klorida ditemui dalam banyak aliran wap. Setelah terpeluwap, ia bertukar kepada asid hidroklorik -- agen kakisan yang sangat agresif.

 

Asid Sulfurik: Terbentuk apabila sulfur trioksida, air, dan oksigen bergabung, sebatian agresif ini juga berfungsi sebagai pemangkin proses dalam tumbuhan alkilasi.

 

Hidrogen: Walaupun tidak menghakis secara langsung, hidrogen adalah faktor pengelasan keluli dan mudah berinteraksi dengan sebatian lain untuk menghasilkan agen menghakis.

 

Fenol: Selalunya ditemui dalam proses yang melibatkan penarik air masam.

 

Oksigen: Seperti hidrogen, oksigen bukanlah ancaman langsung. Malah, oksigen adalah komponen penting dalam menyegarkan lapisan pempasifan keluli tahan karat. Walau bagaimanapun, ia juga digunakan dalam beberapa proses yang boleh menyebabkan pengoksidaan atau penskalaan.

 

Karbon: Juga tidak menghakis secara langsung. Walau bagaimanapun, boleh membawa kepada pengkarbonan pada suhu yang lebih tinggi, menyebabkan kerosakkan keluli dan mengurangkan rintangan kakisan yang membenarkan sebatian menghakis lain untuk memulakan serangan.

 

Ini meletakkan keluli tahan karat pada kedudukan yang boleh dipadankan oleh beberapa logam lain. Walaupun keluli karbon sesuai untuk beberapa keadaan suhu rendah, -tekanan atau -karat, pelbagai aloi keluli tahan karat yang tersedia memastikan terdapat pilihan untuk memberikan perlindungan terhadap proses penapisan minyak dan gas yang paling menghakis sekalipun.

 

 


Hantar pertanyaan

whatsapp

Telefon

E-mel

Siasatan